在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求非常高，不能含有任何離子雜質。半導體行業(yè)用超純水設備采用先進的制水技術，有效去除水中雜質，保證設備的出水水質。半導體超純水設備用水水質標準半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質標準,下面詳細介紹半導體行業(yè)超純水水質的標準要求和超純水設備制備工藝及應用：

半導體超純水設備水質標準要求:

半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業(yè)電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質標準。

半導體超純水設備制備工藝:

1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)

5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

半導體超純水設備的應用領域:

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片。

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。高品質顯像管、螢光粉生產(chǎn)。

汽車、家電表面拋光處理。